由于物理气相沉积获得的膜层具有结构致密、厚度均匀、与基材结合力好等优点，尤其是可以制备多种功能性薄膜，因此作为一种表面改性技术，已成功应用于生物传感器制备中。
什么是物理气相沉积（PVD）技术？
物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）是一种用于在固体表面上沉积薄膜的技术。它通过在真空或者低压环境中加热材料以产生蒸汽或离子，并使其沉积到目标表面上。PVD通常用于生产具有特定功能或性质的薄膜，在生物传感器电极制备中，通过精确的沉积工艺，PVD确保了传感器的一致性，提高了灵敏度和生物相容性。
PVD技术特点有哪些？
PVD技术相对于化学气相沉积方法来说，有如下特点：
- 需要使用固态的或者熔化态的物质作为沉积过程的源物；
- 源物质要经过物理过程进入气相；
- 需要相对较低的气体压力环境；
- 在气相中及衬底表面并不发生化学反应。
PVD技术主要分类有哪些？
按照沉积时物理机制的差别，物理气相沉积一般分为真空蒸镀技术、溅射沉积技术、离子镀膜技术等。主要优缺点如下表所示。
主要PVD技术分类
PVD技术在生物传感器领域的应用
柏医健康采用PVD与激光切割相结合方法制备高性能表现的生物传感器，在环保、高精度、高一致性上有更大优势。
柏医健康定位：CGM及生物电极解决方案提供商
参考文献：
[1] 王福贞, 马文存. 气相沉积应用技术[M]. 北京：机械工业出版社, 2006, 10.
[2] 陈向阳, 张瑾. 气相沉积技术研究现状与进展. 安徽省机械工程学会成立周年论文集.
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